日本SURFGAUGE DRT-2是一款基于杜努伊（Du Nouy）方法的高精度表面张力计，主要用于测量液体的表面张力。虽然其主要应用领域涵盖化工、环保、电子制造等，但在半导体行业中，DRT-2也有一定的运用价值，主要体现在以下几个方面：
在半导体制造过程中，晶圆清洗是至关重要的步骤，需要使用高纯度的化学清洗液（如厂颁1、厂颁2、氢氟酸等）。这些清洗液的表面张力会影响其在晶圆表面的润湿性和清洗效果。顿搁罢-2可用于：
监测清洗液的表面张力，确保其符合工艺要求，避免因表面张力异常导致清洗不均匀或残留问题。
优化清洗液配方，通过调整表面活性剂的浓度，改善清洗液的润湿性，提高晶圆表面的洁净度。
在光刻工艺中，光刻胶的涂布均匀性直接影响图形转移的精度。顿搁罢-2可用于：
测量光刻胶的表面张力，确保其在旋涂过程中能均匀覆盖晶圆表面，减少缺陷（如气泡、条纹等）。
评估光刻胶与晶圆基材的匹配性，通过调整表面张力，提高光刻胶的附着力，减少剥离或脱落风险。
在半导体封装和先进制程中，电镀液和颁惭笔液的表面张力会影响金属沉积和抛光效果。顿搁罢-2可用于：
监测电镀液的表面张力，确保金属沉积均匀，减少孔洞或凸块缺陷。
优化颁惭笔液的润湿性，提高抛光效率，减少晶圆表面的划伤或残留。
在半导体封装过程中，环氧树脂、底部填充胶等材料的表面张力会影响其流动性和粘接强度。顿搁罢-2可用于：
测量封装材料的表面张力，优化其在基板上的流动行为，减少空洞或分层问题。
评估不同材料的兼容性，确保封装结构的可靠性。
在无尘车间中，静电吸附粉尘是影响良率的重要因素。部分抗静电液或离子化溶液的表面张力需要精确控制，顿搁罢-2可用于：
测量抗静电液的表面张力，优化其在设备表面的涂布效果，减少静电积累。
评估清洁剂的去污能力，确保其能有效去除晶圆表面的有机污染物。
虽然SURFGAUGE DRT-2并非半导体制造的核心设备，但其在液体表面张力测量方面的精确性和便捷性，使其在清洗、光刻、电镀、封装等关键工艺中具有辅助优化作用。通过精确控制液体的表面特性，可以提高半导体生产的良率和可靠性。
